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靶材在溅射沉积技术中用作阴极的材料,该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。 钼铌合金靶材 宝鸡科迪普公司从2008年开始投入巨资,*钼铌合金靶材,这几年**对钼铌合金的研发已经形成了市场,大量应用在平面显示、手机触摸、光伏光电子等行业,并于2013年取得了地区发明**证书(ZL 2013),并申报国际**,目前在美国、日本、韩国已经成功注册。 目前FPD所用的ITO较终烧成的靶材应该是单一的三氧化二铟相结构。所采用的工艺基本上是热等静压和热压,这是目前国际上生产ITO靶材的主流工艺,韩国目前只有三星一家,其技术主要来源于日本,产品一部分采用STN,但主要用于TFT液晶生产,但其产品仍有缝隙(空洞)。 我们的钼铌合金靶材可以很好的避开这个不足。 特点:低透湿性、高柔软性、透明介质性开发用钼铌合金替代ITO的材料。高功率、低电阻率、低脆性、合金的组织与成分都分布均匀、晶粒细化、耐腐蚀、高反射、低电阻率、刻蚀性能可稳定蒸发速率、低蒸发温度、低功函数。 我们有较**的团队生产细晶粒、高质量的钼铌合金靶材。